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場發(fā)射電鏡和掃描電鏡的區(qū)別（場發(fā)射掃描電鏡和普通掃描電鏡）

發(fā)布時間：2023-04-08 07:12:26 稿源：創(chuàng)意嶺閱讀： 117

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本文目錄:

1、投射電鏡和掃描電鏡原理,透射電鏡和掃描電鏡的異同點
2、掃描電鏡，透射電鏡
3、掃描電鏡原理什么是場發(fā)射
4、掃描電鏡和投射電鏡的區(qū)別

場發(fā)射電鏡和掃描電鏡的區(qū)別（場發(fā)射掃描電鏡和普通掃描電鏡）

一、投射電鏡和掃描電鏡原理,透射電鏡和掃描電鏡的異同點

1.透射電鏡使用的信號是forwardscatteringelectrons，而掃描電鏡使用的是backwardscatteringelectrons，前者分辨率較后者高,如2010能夠達到3nm左右，可得到高分辨率圖像，觀察位錯孿晶等，而后者一般用于觀察樣品表面形貌，由于掃描電鏡景深較大，所以圖像立體感強，此外，投射電鏡很大一部分時間都花在樣品的制備上了，做到幾十個微米薄。

2.而相比較掃描電鏡樣品制備較簡單。

二、掃描電鏡，透射電鏡

看表面形貌形態(tài)用掃描電鏡，樣品處理簡單，掃描電鏡可以直接觀察你需要的表面，最好的場發(fā)射掃描電鏡在1納米以下分辨率條件下，可以有效觀察10nm左右的結(jié)構(gòu)形態(tài)形貌（高低起伏幾何形狀等），鎢燈絲掃描電鏡在3nm分辨率條件下，可以有效觀察60nm以上的結(jié)構(gòu)形貌，都是比較極限的觀察條件。

由于電子穿透深度有限，所以使用透射電子一般無法觀察大于幾個微米厚度樣品的表面形貌。

過去用TEM觀察鋼鐵的表面形貌，需要制作復形碳膜，也就是現(xiàn)在樣品表面蒸發(fā)幾十納米厚碳膜，然后把金屬樣品腐蝕掉，只留下復制了樣品形貌的幾十納米厚的碳膜，然后用TEM觀察這個碳膜，可以間接表征塊狀物體形貌。所以透射電鏡基本無法直接觀察表面形貌，需要把樣品超薄切片或者離子減薄到微米級，才可以進行觀察，一般觀察的是內(nèi)部結(jié)構(gòu)的輪廓形態(tài)，不會有表面細節(jié)。實際上經(jīng)過超薄處理的樣品表面幾乎是平的，沒有細節(jié)，這個樣品在掃描電鏡下是沒有任何形貌反差的，掃描電鏡成像信號不會看到內(nèi)部結(jié)構(gòu)形態(tài)。透射電鏡分辨率極高，對于幾個納米的結(jié)構(gòu)形態(tài)會很輕松表征，進一步可以看到原子晶格排列。整個視場在幾個納米范圍內(nèi)。

如果真需要更加精細的在幾十個納米范圍內(nèi)觀察樣品形貌，上面的朋友講的SPM(包括AFM,STM)也是不錯選擇，但對樣品的嚴格程度和TEM差不多。

三、掃描電鏡原理什么是場發(fā)射

掃描電鏡原理：

電子與物質(zhì)相互作用會產(chǎn)生透射電子，彈性散射電子，能量損失電子，二次電子，背反射電子，吸收電子，X射線，俄歇電子，陰極發(fā)光和電動力等等。

電子顯微鏡就是利用這些信息來對試樣進行形貌觀察、成分分析和結(jié)構(gòu)測定的。

電子顯微鏡有很多類型，主要有透射電子顯微鏡(簡稱透射電鏡，TEM)和掃描電子顯微鏡(簡稱掃描電鏡，SEM)兩大類。

電子束通過加速電壓打到樣品上，稱場發(fā)射。

四、掃描電鏡和投射電鏡的區(qū)別

他們之間參數(shù)、原理就不說了，很好搜到。

可以這樣理解：掃描電鏡看到的是物體的表面輪廓，產(chǎn)生真實的立體感圖像。如下圖

場發(fā)射電鏡和掃描電鏡的區(qū)別（場發(fā)射掃描電鏡和普通掃描電鏡）