透射電鏡和掃描電鏡的分辨率

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本文目錄:

• 1、掃描電鏡，透射電鏡

• 2、掃描電鏡的成像原理與透射電鏡有何不同？

• 3、超濾膜孔徑如何測定

• 4、粒度分析的種類和適用范圍

一、掃描電鏡，透射電鏡

看表面形貌形態(tài)用掃描電鏡，樣品處理簡單，掃描電鏡可以直接觀察你需要的表面，最好的場發(fā)射掃描電鏡在1納米以下分辨率條件下，可以有效觀察10nm左右的結構形態(tài)形貌（高低起伏幾何形狀等），鎢燈絲掃描電鏡在3nm分辨率條件下，可以有效觀察60nm以上的結構形貌，都是比較極限的觀察條件。

由于電子穿透深度有限，所以使用透射電子一般無法觀察大于幾個微米厚度樣品的表面形貌。

過去用TEM觀察鋼鐵的表面形貌，需要制作復形碳膜，也就是現(xiàn)在樣品表面蒸發(fā)幾十納米厚碳膜，然后把金屬樣品腐蝕掉，只留下復制了樣品形貌的幾十納米厚的碳膜，然后用TEM觀察這個碳膜，可以間接表征塊狀物體形貌。所以透射電鏡基本無法直接觀察表面形貌，需要把樣品超薄切片或者離子減薄到微米級，才可以進行觀察，一般觀察的是內部結構的輪廓形態(tài)，不會有表面細節(jié)。實際上經過超薄處理的樣品表面幾乎是平的，沒有細節(jié)，這個樣品在掃描電鏡下是沒有任何形貌反差的，掃描電鏡成像信號不會看到內部結構形態(tài)。透射電鏡分辨率極高，對于幾個納米的結構形態(tài)會很輕松表征，進一步可以看到原子晶格排列。整個視場在幾個納米范圍內。

如果真需要更加精細的在幾十個納米范圍內觀察樣品形貌，上面的朋友講的SPM(包括AFM,STM)也是不錯選擇，但對樣品的嚴格程度和TEM差不多。

二、掃描電鏡的成像原理與透射電鏡有何不同？

1、方式不同

掃描電鏡和電視掃描原理相同的成像方式，透射電鏡和光學顯微鏡或者照相機成像原理相同的成像方式。

2、實現(xiàn)不同

擴展資料：

透射電子顯微鏡是把經加速和聚集的電子束投射到非常薄的樣品上，電子與樣品中的原子碰撞而改變方向，從而產生立體角散射。散射角的大小與樣品的密度、厚度相關，因此可以形成明暗不同的影像，影像將在放大、聚焦后在成像器件（如熒光屏、膠片、以及感光耦合組件）上顯示出來。

由于電子的德布羅意波長非常短，透射電子顯微鏡的分辨率比光學顯微鏡高的很多，可以達到0.1～0.2nm，放大倍數為幾萬～百萬倍。

因此，使用透射電子顯微鏡可以用于觀察樣品的精細結構，甚至可以用于觀察僅僅一列原子的結構，比光學顯微鏡所能夠觀察到的最小的結構小數萬倍。TEM在中和物理學和生物學相關的許多科學領域都是重要的分析方法，如癌癥研究、病毒學、材料科學、以及納米技術、半導體研究等等。

在放大倍數較低的時候，TEM成像的對比度主要是由于材料不同的厚度和成分造成對電子的吸收不同而造成的。

而當放大率倍數較高的時候，復雜的波動作用會造成成像的亮度的不同，因此需要專業(yè)知識來對所得到的像進行分析。通過使用TEM不同的模式，可以通過物質的化學特性、晶體方向、電子結構、樣品造成的電子相移以及通常的對電子吸收對樣品成像。

三、超濾膜孔徑如何測定

超濾膜孔徑的測定微孔濾膜的孔徑分離效率是關鍵所在，所以評價濾膜孔徑甚為重要。

目前大致采用以下方法：

一、直接測量法

1.直接法測膜孔徑

（1）電子顯微鏡

掃描電鏡（SEM）和透射電鏡（TEM）電子顯微鏡表征膜的孔徑、孔徑分布及膜的形態(tài)結構。

制樣至關重要。濕膜樣品要經過脫水、蒸鍍、復型等處理。

逐級脫水法：膜樣品用5%餓酸固定，然后在提取器中用CCl4或乙醇逐級脫水，再用環(huán)氧樹脂包埋固化，最后用超薄切片機切成薄片。適用透射電子顯微鏡的觀察。

低溫冷凍脫水法：膜樣品放在液氮或其他低溫介質中冷凍，使膜樣品中的水急速冷凍為細小的結晶，然后在低溫（至少低于-60°C）和低真空下，使冷凍的結晶逐級升華。這樣制備的膜樣品不收縮，經鍍金或復型，可用電子顯微鏡觀測。

微濾膜的孔徑為0.05-10m，掃描電鏡可分辨。

超濾膜的孔徑為1nm-30mm，掃描電鏡的分辨率低于5-10nmnm，所以采用掃描電鏡觀測超濾膜的結構是困難的。

透射電鏡的分辨率比掃描電鏡要高得多，約為3-4A正確制樣，高分辨率的透射電鏡可以觀測超濾膜的表面細微結構。

環(huán)境掃描電子顯微鏡（ESEM），克服了常規(guī)SEM的局限性。使?jié)竦摹⒂托缘?、臟的和不導電的樣品不經處理就可直接上機觀測。

二、間接測量法

間接法是利用與孔徑有關的物理現(xiàn)象，通過實驗測出相應的物理參數，在假設孔徑為均勻直通圓孔的假設條件下，計算得到膜的等效孔徑，主要方法有泡點壓力法、壓汞法、氮氣吸附法、液液置換法、氣體滲透法、截留分子量法、懸浮液過濾法。

泡點法：

原理

當氣體通過充滿了液體的膜孔時，若氣體的壓力與膜孔內液體的界面張力相等，則孔內的液體逸出，即得泡點壓力與膜的孔徑之間關系：

泡點壓力所對應膜的最大孔徑。實測時，膜應被液體完全潤濕，否則將帶來誤差。

親水性膜采用水為潤濕液體；疏水性膜采用醇為潤濕液體。

測定步驟

a將樣品平行于液面浸入蒸餾水中，使其完全濕潤b將濾膜置于測試池上，壓上光滑的多孔板c在多孔板上加入3-5mm深的水d開通氣源，使壓力緩慢上升，當濾膜表面出現(xiàn)第一個氣泡并連續(xù)出泡時的氣體壓力值，帶入公式可求出樣品最大孔徑值。

e氣泡出現(xiàn)最多時的壓力值，帶入公式可求出樣品最小孔徑。

f由最大孔徑與最小孔徑即可算出平均孔徑。

（1）電鏡法比較直觀，但屬破壞性檢測，也只能得到局部信息

（2）泡壓法（又稱氣體滲透法）只局限于測定膜孔中的最大孔徑，用于小孔徑超濾膜的測定時所需壓力遠高于膜的使用壓力，故一般認為只適用于微濾膜的測定。

四、粒度分析的種類和適用范圍

顯微鏡法(Microscopy)　

SEM、TEM；1nm～5μm范圍。適合納米材料的粒度大小和形貌分析。

沉降法(Sedimentation Size Analysis) 　沉降法的原理是基于顆粒在懸浮體系時，顆粒本身重力(或所受離心力)、所受浮力和黏滯阻力三者平衡，并且黏滯力服從斯托克斯定律來實施測定的，此時顆粒在懸浮體系中以恒定速度沉降，且沉降速度與粒度大小的平方成正比。10nm～20μm的顆粒。

光散射法(Light Scattering)　

激光衍射式粒度儀僅對粒度在5μm以上的樣品分析較準確，而動態(tài)光散射粒度儀則對粒度在5μm以下的納米樣品分析準確。

激光光散射法可以測量20nm－3500μm的粒度分布，獲得的是等效球體積分布，測量準確，速度快，代表性強，重復性好，適合混合物料的測量。

利用光子相干光譜方法可以測量1nm－3000nm范圍的粒度分布，特別適合超細納米材料的粒度分析研究。測量體積分布，準確性高，測量速度快，動態(tài)范圍寬，可以研究分散體系的穩(wěn)定性。其缺點是不適用于粒度分布寬的樣品測定。

光散射粒度測試方法的特點

測量范圍廣,現(xiàn)在最先進的激光光散射粒度測試儀可以測量1nm～3000μm,基本滿足了超細粉體技術的要求。

測定速度快,自動化程度高,操作簡單。一般只需1~1.5min。

測量準確,重現(xiàn)性好。

可以獲得粒度分布。

激光相干光譜粒度分析法 　

通過光子相關光譜（PCS）法，可以測量粒子的遷移速率。而液體中的納米顆粒以布朗運動為主，其運動速度取決于粒徑，溫度和粘度等因素。在恒定的溫度和粘度條件下，通過光子相關光譜（PCS）法測定顆粒的遷移速率就可以獲得相應的顆粒粒度分布。

光子相關光譜(pcs)技術能夠測量粒度度為納米量級的懸浮物粒子,它在納米材料，生物工程、藥物學以及微生物領域有廣泛的應用前景。

5電鏡法粒度分析　

優(yōu)點是可以提供顆粒大小，分布以及形狀的數據。此外，一般測量顆粒的大小可以從1納米到幾個微米數量級。

并且給的是顆粒圖像的直觀數據，容易理解。但其缺點是樣品制備過程會對結果產生嚴重影響，如樣品制備的分散性，直接會影響電鏡觀察質量和分析結果。電鏡取樣量少，會產生取樣過程的非代表性。

適合電鏡法粒度分析的儀器主要有掃描電鏡和透射電鏡。普通掃描電鏡的顆粒分辨率一般在6nm左右，場發(fā)射掃描電鏡的分辨率可以達到0.5nm。

掃描電鏡對納米粉體樣品可以進行溶液分散法制樣，也可以直接進行干粉制樣。對樣品制備的要求比較低，但由于電鏡對樣品有求有一定的導電性能，因此，對于非導電性樣品需要進行表面蒸鍍導電層如表面蒸金，蒸碳等。一般顆粒在10納米以下的樣品比較不能蒸金，因為金顆粒的大小在8納米左右，會產生干擾的，應采取蒸碳方式。

掃描電鏡有很大的掃描范圍，原則上從1nm到mm量級均可以用掃描電鏡進行粒度分析。而對于透射電鏡，由于需要電子束透過樣品，因此，適用的粒度分析范圍在1-300nm之間。

對于電鏡法粒度分析還可以和電鏡的其他技術連用，可以實現(xiàn)對顆粒成份和晶體結構的測定，這是其他粒度分析法不能實現(xiàn)的。

以上就是關于透射電鏡和掃描電鏡的分辨率相關問題的回答。希望能幫到你，如有更多相關問題，您也可以聯(lián)系我們的客服進行咨詢，客服也會為您講解更多精彩的知識和內容。

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