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電子掃描電鏡(電子掃描顯微鏡)
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本文目錄:
一、掃描電鏡生產(chǎn)廠家
1、盈普儀器科技(寧波)有限公司
2、深圳市瑞盛科技有限公司
3、深圳市納科科技有限公司
4、惠州市華高儀器設(shè)備有限公司
5、蘇州安原儀器有限公司
掃描電子顯微鏡,簡(jiǎn)稱:掃描電鏡,英文名稱:SEM(ScanningElectronMicroscope)。它是用細(xì)聚焦的電子束轟擊樣品表面,
通過電子與樣品相互作用產(chǎn)生的二次電子、背散射電子等對(duì)樣品表面或斷口形貌進(jìn)行觀察和分析。現(xiàn)在SEM都與能譜(EDS)組合,可以進(jìn)行成分分析。所以SEM也是顯微結(jié)構(gòu)分析的主要儀器,已廣泛用于材料、冶金、礦物、生物學(xué)等領(lǐng)域。
二、掃描電鏡與透射電鏡的區(qū)別?
1、結(jié)構(gòu)差異:
主要體現(xiàn)在樣品在電子束光路中的位置不同。透射電鏡的樣品在電子束中間,電子源在樣品上方發(fā)射電子,經(jīng)過聚光鏡,然后穿透樣品后,有后續(xù)的電磁透鏡繼續(xù)放大電子光束,最后投影在熒光屏幕上;掃描電鏡的樣品在電子束末端,電子源在樣品上方發(fā)射的電子束,經(jīng)過幾級(jí)電磁透鏡縮小,到達(dá)樣品。當(dāng)然后續(xù)的信號(hào)探側(cè)處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)也會(huì)不同,但從基本物理原理上講沒什么實(shí)質(zhì)性差別。
2、基本工作原理:
透射電鏡:電子束在穿過樣品時(shí),會(huì)和樣品中的原子發(fā)生散射,樣品上某一點(diǎn)同時(shí)穿過的電子方向是不同,這樣品上的這一點(diǎn)在物鏡1-2倍焦距之間,這些電子通過過物鏡放大后重新匯聚,形成該點(diǎn)一個(gè)放大的實(shí)像,這個(gè)和凸透鏡成像原理相同。這里邊有個(gè)反差形成機(jī)制理論比較深就不講,但可以這么想象,如果樣品內(nèi)部是絕對(duì)均勻的物質(zhì),沒有晶界,沒有原子晶格結(jié)構(gòu),那么放大的圖像也不會(huì)有任何反差,事實(shí)上這種物質(zhì)不存在,所以才會(huì)有這種儀器存在的理由。
掃描電鏡:電子束到達(dá)樣品,激發(fā)樣品中的二次電子,二次電子被探測(cè)器接收,通過信號(hào)處理并調(diào)制顯示器上一個(gè)像素發(fā)光,由于電子束斑直徑是納米級(jí)別,而顯示器的像素是100微米以上,這個(gè)100微米以上像素所發(fā)出的光,就代表樣品上被電子束激發(fā)的區(qū)域所發(fā)出的光。實(shí)現(xiàn)樣品上這個(gè)物點(diǎn)的放大。如果讓電子束在樣品的一定區(qū)域做光柵掃描,并且從幾何排列上一一對(duì)應(yīng)調(diào)制顯示器的像素的亮度,便實(shí)現(xiàn)這個(gè)樣品區(qū)域的放大成像。
3、對(duì)樣品要求
(1)掃描電鏡
SEM制樣對(duì)樣品的厚度沒有特殊要求,可以采用切、磨、拋光或解理等方法將特定剖面呈現(xiàn)出來,從而轉(zhuǎn)化為可以觀察的表面。這樣的表面如果直接觀察,看到的只有表面加工損傷,一般要利用不同的化學(xué)溶液進(jìn)行擇優(yōu)腐蝕,才能產(chǎn)生有利于觀察的襯度。不過腐蝕會(huì)使樣品失去原結(jié)構(gòu)的部分真實(shí)情況,同時(shí)引入部分人為的干擾,對(duì)樣品中厚度極小的薄層來說,造成的誤差更大。
(2)透射電鏡
由于TEM得到的顯微圖像的質(zhì)量強(qiáng)烈依賴于樣品的厚度,因此樣品觀測(cè)部位要非常的薄,例如存儲(chǔ)器器件的TEM樣品一般只能有10~100nm的厚度,這給TEM制樣帶來很大的難度。初學(xué)者在制樣過程中用手工或者機(jī)械控制磨制的成品率不高,一旦過度削磨則使該樣品報(bào)廢。TEM制樣的另一個(gè)問題是觀測(cè)點(diǎn)的定位,一般的制樣只能獲得10mm量級(jí)的薄的觀測(cè)范圍,這在需要精確定位分析的時(shí)候,目標(biāo)往往落在觀測(cè)范圍之外。目前比較理想的解決方法是通過聚焦離子束刻蝕(FIB)來進(jìn)行精細(xì)加工。
擴(kuò)展資料:
透射電子顯微鏡的成像原理 可分為三種情況:
(1)吸收像:當(dāng)電子射到質(zhì)量、密度大的樣品時(shí),主要的成相作用是散射作用。樣品上質(zhì)量厚度大的地方對(duì)電子的散射角大,通過的電子較少,像的亮度較暗。早期的透射電子顯微鏡都是基于這種原理。
(2)衍射像:電子束被樣品衍射后,樣品不同位置的衍射波振幅分布對(duì)應(yīng)于樣品中晶體各部分不同的衍射能力,當(dāng)出現(xiàn)晶體缺陷時(shí),缺陷部分的衍射能力與完整區(qū)域不同,從而使衍射波的振幅分布不均勻,反映出晶體缺陷的分布。
(3)相位像:當(dāng)樣品薄至100Å以下時(shí),電子可以穿過樣品,波的振幅變化可以忽略,成像來自于相位的變化。
參考資料:百度百科-掃描電鏡
百度百科-透射電鏡
三、掃描電鏡se(ul)是什么意思
口徑的大小。通過查詢掃描電鏡se(ul)資料了解顯示得知,掃描電鏡se(ul)是指口徑的大小,掃描電鏡一般指掃描電子顯微鏡。 掃描電子顯微鏡(SEM)是一種介于透射電子顯微鏡和光學(xué)顯微鏡之間的一種觀察手段。
四、掃描電鏡的成像原理與透射電鏡有何不同?
1、方式不同
掃描電鏡和電視掃描原理相同的成像方式,透射電鏡和光學(xué)顯微鏡或者照相機(jī)成像原理相同的成像方式。
2、實(shí)現(xiàn)不同
掃描電鏡利用掃描透射電子顯微鏡可以觀察較厚的試樣和低襯度的試樣。透射電鏡利用掃描透射模式時(shí)物鏡的強(qiáng)激勵(lì),可以實(shí)現(xiàn)微區(qū)衍射。擴(kuò)展資料:
透射電子顯微鏡是把經(jīng)加速和聚集的電子束投射到非常薄的樣品上,電子與樣品中的原子碰撞而改變方向,從而產(chǎn)生立體角散射。散射角的大小與樣品的密度、厚度相關(guān),因此可以形成明暗不同的影像,影像將在放大、聚焦后在成像器件(如熒光屏、膠片、以及感光耦合組件)上顯示出來。
由于電子的德布羅意波長(zhǎng)非常短,透射電子顯微鏡的分辨率比光學(xué)顯微鏡高的很多,可以達(dá)到0.1~0.2nm,放大倍數(shù)為幾萬~百萬倍。
因此,使用透射電子顯微鏡可以用于觀察樣品的精細(xì)結(jié)構(gòu),甚至可以用于觀察僅僅一列原子的結(jié)構(gòu),比光學(xué)顯微鏡所能夠觀察到的最小的結(jié)構(gòu)小數(shù)萬倍。TEM在中和物理學(xué)和生物學(xué)相關(guān)的許多科學(xué)領(lǐng)域都是重要的分析方法,如癌癥研究、病毒學(xué)、材料科學(xué)、以及納米技術(shù)、半導(dǎo)體研究等等。
在放大倍數(shù)較低的時(shí)候,TEM成像的對(duì)比度主要是由于材料不同的厚度和成分造成對(duì)電子的吸收不同而造成的。
而當(dāng)放大率倍數(shù)較高的時(shí)候,復(fù)雜的波動(dòng)作用會(huì)造成成像的亮度的不同,因此需要專業(yè)知識(shí)來對(duì)所得到的像進(jìn)行分析。通過使用TEM不同的模式,可以通過物質(zhì)的化學(xué)特性、晶體方向、電子結(jié)構(gòu)、樣品造成的電子相移以及通常的對(duì)電子吸收對(duì)樣品成像。
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